一、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：
(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。
(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。
二、其他因素誤差
(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結果會變差。
(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發生漏電、放電現象，使分析結果不穩定。
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